EDI超纯水设备又称电去离子设备，一般用于电子光学行业生产用水，如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求．
服务内容：
包括设备工艺设计、系统制造、安装、现场安装、系统试装调整、设备保修、及售后服务等。
设计参考标准：
1）建设方提供的相关技术资料，技术说明，及基本技术要求；
2）国家现行有关设计规范、施工及验收规范、质量评定标准；
3）反渗透系统设计依据美国
4）ZBG98020-90《水处理设备系列型谱》；
5）电力装置的继电保护和自动装置设计规范(GB50062-1992)；
6）工业与民用电力装置的接地设计规范(GBJ65-1983)；
7）GB/T11446.1-1997国家电子级超纯水标准Ⅰ级≥18MΩ/CM （25℃）95％以上时间；
EDI超纯水设备简述：
既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水称为超纯水,我国电子工业部将电子工业用水划分为四级用水标准（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），采用当今最先进的双级反渗透纯化水处理技术＋EDI模块化设计。原水通过一、二级反渗透系统去除各种盐份及杂质,再经过EDI系统对反渗透产水高度净化，使水质提高。此电子行业EDI超纯水设备不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，系统工艺先进、水质稳定、自动化程度高、操作简便、占地少、运行费用低、绿色环保、维护方便,处理后可生产出水电阻率可达到18.2兆的超纯水。
